HMC-100

HMC-100

    사용 방법 개요
  • 고배율 교정용 표준물질(이하 HMC, High Magnification Calibrator)은 원자힘현미경(이하 AFM, Atomic Force Microscope) 및 주사전자현미경(이하 SEM, Scanning Electron Microscope)으로 측정된 값과 인증값을 비교하여 배율 및 오프셋 값을 교정하는데 사용된다.

    측정 방법 (AFM, SEM)
  • AFM 측정 : 임의의 5개 영역에서 나노 패턴이 수직방향으로 보이도록 AFM 이미지를 얻은 후, 일정 영역에 대해 평균 선형분포도로 변환시킨 후 표면으로부터 20 nm 깊이에 해당되는 위치로부터 5개 피치 및 선폭을 측정한다.
  • SEM 측정 : 임의의 5개 영역에서 나노 패턴이 수직방향으로 보이도록 SEM 이미지를 얻은 후, 이를 콘트라스트 분포도로 변환하여 얻어지는 피크 위치로부터 5개 피치 및 선폭을 측정한다.

(a) AFM 측정방법

(b) SEM 측정방법

    사용 방법 개요
  • 고배율 교정용 표준물질(이하 HMC, High Magnification Calibrator)은 원자힘현미경(이하 AFM, Atomic Force Microscope) 및 주사전자현미경(이하 SEM, Scanning Electron Microscope)으로 측정된 값과 인증값을 비교하여 배율 및 오프셋 값을 교정하는데 사용된다.

    제공 프로그램에 의한 배율 및 오프셋 교정
  • 위 측정 방법에 따라 얻어진 5세트의 측정값을 제공되는 엑셀기반 프로그램의 입력 sheet에 입력하면 배율교정계수(fc) 및 오프셋 교정계수(c)가 각각의 불확도와 함께 자동 산출되어 제공된다.

데이터 입력 Sheet

배율교정계수(fc) 및 불확도

오프셋교정계수(c) 및 불확도