나노미터 두께측정용 산화막 KRC-NTC-HfO 2

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나노미터 두께측정용 산화막 KRC-NTC-HfO2

    KRC-NTC-HfO2 개요
  • 나노미터 두께 측정용 산화막 표준물질(Nano Thickness Calibrator: NTC)은 산화물 박막의 두께를 측정하기 위한 측정 장비
    (XRR, XPS, Ellipsometry, TEM, MEIS 등)를 교정하기 위한 표준물질로 2 nm의 SiO2 층이 성장되어 있는 결정성 실리콘 기판인
    Si(100) 위에 성장된 산화막으로 이루어진 인증표준물질이다.
  • KRC-NTC-HfO2은 SiO2(2 nm)이 성장되어 있는 Si(100) 웨이퍼 위에 원자층증착법으로 성장된 1 ~ 5 nm 두께의 HfO2 박막으로
    서로 다른 두께의 5개 박막에 대하여 인증값과 측정값을 통해 박막 두께 파라미터를 교정하는데 사용된다
    KRC-NTC-HfO2 주요 사양
  • 항 목 세부 사양
    산화막 명목 두께 1, 2, 3, 4, 6 nm
    기판 SiO2(2 nm) / Si(100) 웨이퍼
    박막 증착 Atomic Layer Deposition
    인증 방법 TEM과 MEIS를 이용한 상호보정법
    소급성 TEM 측정 실리콘 격자 상수 기준 인증
    MEIS 스펙트럼
  • 시편 구조

    • (10 x 10 x 0.65 mm)

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